На 1975 год
В Институте физики полупроводников СО АН СССР впервые применен лазерный .отжиг ионно-имплантиро-ванных полупроводниковых слоев.
В Институте физики полупроводников СО АН СССР впервые применен лазерный .отжиг ионно-имплантиро-ванных полупроводниковых слоев.